半導(dǎo)體薄膜非接觸測(cè)厚儀
簡(jiǎn)要描述：NS-30半導(dǎo)體薄膜非接觸測(cè)厚儀是一款基于白光干涉原理的高精度測(cè)量設(shè)備，特別適用于需要自動(dòng)化測(cè)量和精準(zhǔn)厚度分布分析的場(chǎng)景。
詳細(xì)介紹
| 價(jià)格區(qū)間 | 20萬(wàn)-50萬(wàn) | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) |
|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,包裝/造紙/印刷,航空航天 | | |
|---|
NS-30半導(dǎo)體薄膜非接觸測(cè)厚儀是一款基于白光干涉原理的高精度測(cè)量設(shè)備，特別適用于需要自動(dòng)化測(cè)量和精準(zhǔn)厚度分布分析的場(chǎng)景。
1、核心原理
垂直入射的高穩(wěn)定寬波段光入射到樣品表面，在各膜層之間產(chǎn)生光學(xué)干涉現(xiàn)象，反射光經(jīng)過(guò)光譜分析以及回歸算法可計(jì)算出薄膜各層的厚度。適合測(cè)量納米級(jí)至微米級(jí)的透明或半透明膜層的厚度、反射率、折射率等參數(shù)。
2、具體參數(shù)
- 核心原理：垂直入射寬波段白光干涉技術(shù)
- 測(cè)量范圍：1 nm 至 250 μm
- 波長(zhǎng)范圍 (NIP型號(hào))：950 nm - 1700 nm (近紅外波段)
- 準(zhǔn)確度：3 nm 或 0.4%
- 重復(fù)精度：0.1 nm
- 測(cè)量速度：< 1秒/單點(diǎn)
- 光斑大?。?.5 mm
- 核心特色：自動(dòng)樣品載臺(tái)，可預(yù)設(shè)點(diǎn)位進(jìn)行自動(dòng)測(cè)量，并生成厚度、折射率、反射率的2D/3D分布圖
- 樣品臺(tái)尺寸：100mm 至 450mm 可選
- 測(cè)量能力：可測(cè)量多層復(fù)合薄膜各層的厚度、折射率(n)和反射率
3、核心功能
4、實(shí)測(cè)結(jié)果展示
在線留言
產(chǎn)品分類(lèi)
關(guān)注公眾號(hào)
相關(guān)文章
上一篇