價(jià)格區(qū)間	20萬-50萬	產(chǎn)地類別	國產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域	生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,包裝/造紙/印刷,航空航天

NS-30UV 薄膜膜厚測厚儀是蘇州悉識科技有限公司生產(chǎn)的一款國產(chǎn)白光干涉膜厚測量儀，采用光學(xué)干涉原理實(shí)現(xiàn)納米至微米級薄膜厚度的非接觸測量。

一、技術(shù)參數(shù)：

1、NS-30UV核心參數(shù)

- 波長范圍：190-1700 nm

- 測量范圍：1 nm - 250 μm

- 測量精度：1 nm 或 0.2%

- 重復(fù)精度：0.02 nm

- 測量時(shí)間：小于1秒

- 穩(wěn)定性：0.05 nm

- 光斑大小：0.5 mm

2、同系列型號規(guī)格

同系列型號規(guī)格

二、工作原理

NS-30采用垂直入射高穩(wěn)定寬波段光的光學(xué)干涉原理，實(shí)現(xiàn)納米至微米級透明或半透明膜層厚度、反射率及折射率的測量。垂直入射的高穩(wěn)定寬波段光入射到樣品表面，在各膜層之間產(chǎn)生光學(xué)干涉現(xiàn)象，反射光經(jīng)過光譜分析以及回歸算法可計(jì)算出薄膜各層的厚度。

三、產(chǎn)品特點(diǎn)

1、核心優(yōu)勢：

- 軟硬件國產(chǎn)化：100%國產(chǎn)自研，100%自主可控

- 非接觸測量：可測量硬質(zhì)材料、軟質(zhì)材料或表面易受損的樣品

- 高精度高穩(wěn)定性：亞納米級厚度測量精度，靜態(tài)穩(wěn)定性可達(dá)0.02納米

- 多層膜測量能力：可以測量多層復(fù)合薄膜各層的厚度

- 智能化算法：核心算法，一鍵式測量大跨度膜厚

2、功能特色：

- 樣品自動(dòng)測量，平臺尺寸100mm~450mm可選

- 軟件根據(jù)需求自動(dòng)生成測量點(diǎn)位分布

- 2D和3D測繪效果，包含厚度/折射率/反射率等信息

- 可測量薄膜應(yīng)力和表面彎曲(Stress/Bow)

- 測量速度：5個(gè)點(diǎn)-5秒（200mm晶圓），25個(gè)點(diǎn)-14秒

實(shí)測結(jié)果展示
薄膜膜厚測厚儀實(shí)測結(jié)果展示

四、應(yīng)用領(lǐng)域

1、NS-30薄膜測厚儀廣泛應(yīng)用于多個(gè)高科技領(lǐng)域：

- 半導(dǎo)體制造：沉積/蝕刻薄膜厚度測量、CMP工藝表面平整度檢測、抗蝕劑臺階高度分析

- 光伏與顯示面板：太陽能涂層膜厚、AMOLED屏微結(jié)構(gòu)、觸控面板銅跡線測量

- 光學(xué)鍍層：AR抗反射層、AG防眩光涂層、濾光片、眼鏡等光學(xué)元件的膜厚測量

- 電子與材料科學(xué)：半導(dǎo)體芯片、液晶顯示屏等器件的薄膜厚度測量，材料表面應(yīng)力分析

- 生物醫(yī)學(xué)：Parylene派瑞林、聚合物、生物膜、醫(yī)療設(shè)備等薄膜材料的厚度檢測

2、維護(hù)保養(yǎng)：

- 保持機(jī)器清潔，非試驗(yàn)時(shí)間覆蓋防塵布

- 避免電磁磁場干擾儀器工作

- 定期進(jìn)行校準(zhǔn)和維護(hù)

NS-30系列作為桌面式自動(dòng)膜厚測量分析系統(tǒng)，在膜厚測量的基礎(chǔ)上迭加自動(dòng)測樣載臺，能夠?qū)υO(shè)置好的點(diǎn)位進(jìn)行自動(dòng)測量，并進(jìn)一步生成2D和3D的資料分布圖，特別適用于晶圓膜厚測量等精密應(yīng)用場景。

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